第125章 500纳米
十月中旬，天气转凉。
外面的喧囂继续，徐卫国乾脆缩小了自己的活动范围，每天就是上班下班，两点一线，反正就是什么事都不掺和。
这天上午，他来到办公室，坐下的第一件事就是看报纸，以了解各方动態。
今天头版头条的却是个好消息，两弹结合试验成功了。
所谓两弹结合，就是装载了核弹的飞弹。
对华国来说，这次试射意义重大，因为只有两弹结合后，才算是具备了真正的战略威慑力，彻底远离了战爭的阴影。
飞弹共飞行了九百公里，成功命中靶场。
不过，九百公里並不是这款飞弹的极限射程，只是为了安全考量才有意压缩了。
原歷史上，这款飞弹射程在一千三百公里左右。
不过，由於这几年材料、精密加工技术以及控制系统的大幅进步，飞弹的尺寸增加了不少，同时很多部件又大幅减重，飞弹射程自然也大幅提升。
两年前第一次试射时，对外宣称的射程就超过了两千五百公里。
而过去的两年由手资金充裕，对军工的资源投入极夫，技术进步肯定更夫，据徐卫国了解到的一点信息，最先进的型號已经达到了远程飞弹的標准，也就是四千公里。
对华国来说，飞弹领域如今基本只剩下洲际飞弹这一个硬骨头了。
看完报纸，又处理了邮件，徐卫国起身下楼。
不久，他来到了光刻机实验室。
新一代光刻机研发已经到了最后关头，徐卫国没事儿就会来转转，倒也不是要来做什么指导，纯粹是看著心情舒畅。
章立军正领著团队对机器做调试，徐卫国凑上前，拍拍他的肩膀，问道：“怎么样了？明天能完成吗？”
章立军扭头看了眼，道：“不用明天，就今天！”
徐卫国看著他已经打綹的头髮，道：“没必要这么急，慢慢来就行。————瞧你们这一个个的，跟刚逃荒回来似的。”
“嗐，这有什么，我们又不是来相亲的，那么注意形象干嘛？”
“行吧！那你给个具体时间点，我到时候也来捧场。”
“那就————下午四点吧！”
“好。”
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从光刻机实验室离开，徐卫国又来到了集成电路设计实验室。
这里实际包含两个部门，一个是集成电路设计软体的开发部门，也就是后世的eda软体；一个是具体的晶片设计团队。
因为两个团队做的事紧密相关，需要经常交流沟通，所以徐卫国乾脆把他们归入了同一个实验室。
科学院那边的情况现在一团糟，已经没法指望了。幸好徐卫国早有准备，去年就从那边挖了一批骨干过来，以这些人为基础，以老带新又培养了一批人才，如今也算兵强马壮。
徐卫国走进一间屋子，就看到十几號人每人守著一台计算机，正在藉助设计软体进行集成电路的绘製。
他们的集成电路设计团队现在有四百多號人，同时在做四个项目的开发，两款微处理器，两款存储晶片。
那两款微处理器，一款是二十五万个电晶体规模的，一款只包含十万个电晶体，前者是为专业大型计算机研製，后者则为个人电脑开发。
至於存储晶片，一款是一百二十万规模的，一款只有七十万规模。
这也是他们第一次尝试设计超百万规模的集成电路，难度很大，而之所以敢这么做，是因为他们的晶片设计软体（eda软体）有了重大突破，现在已经能够对电路进行逻辑模擬、定时分析、自动布局布线，不仅彻底省去了重复劳动，还能够自动查错。
能进步这么快，主要是徐卫国给出了详细开发方案，团队成员有很清晰的方向。
设计软体开发工作原本是由计算所那边做的，等徐卫国从计算所挖来了一批软体设计人员后，就变成了两家並行。
889所这边人少，但有徐卫国参与，进展反而快的多，今年九月时就完成了开发，隨后正式投入了实际设计工作。
设计软体的进步，导致晶片设计劳动量大幅缩减，同时允许更多研发人员参与其中，集成电路的设计效率至少提高了七倍。
集成电路设计实验室的负责人叫赵勛，三十来岁，是徐卫国去年从计算所那边挖过来的。
徐卫国找到他的办公室，告知了他光刻机那边的情况。
闻言，赵勛有些无奈的道：“他们进展也太快了，我们那几款晶片，设计完成估计还得两年。看来，我们得加快进度了。”
徐卫国摆手道：“加快进度倒是不必，你们按部就班就行，毕竟欲速则不达。而且，设备做出来不代表就能立刻投入生產，真正量產估计也要等个一年半载的。”
新一代光刻机，瞄准的是500纳米特徵尺寸，完成后，將用於製造百万级规模的集成电路，就是为正在设计的那些晶片准备的。
这里的百万级，並不是说只有一百万规模，而是不確定状態。
因为其实际製造能力是受到其它各分系统制约的，比如蚀刻、薄膜沉积、离子注入等等过程，一个达不到，那整体都得受影响。而且，晶片上有的部分尺寸必须更大些，这也影响了极限规模。
说是下午四点，实际直到五点下班时间，章立军他们还没完成工作，所有人只好加班继续。
徐卫国也在这陪著。
接近六点时，各项工作终於完成，可以进行实际的加工测试了。
光刻机特徵尺寸的测试，是个相当严密的过程。
首先，要设计製造一块专用“解析度测试板”，上面有各种不同尺寸和密度的图案。
然后是进行光刻和显影。
最后是显微镜观察测量。
“解析度测试板”已经提前做好，操作员可以直接用机器进行光刻跟显影。
不久，加工完成，操作员取出硅片，接下来是实际观测。
在500纳米尺寸下，传统的光学显微镜已经不够用了，误差太大，必须使用扫描电子显微镜。
操作员把硅片拿到显微镜那，放置好后，电子显微镜发射电子束扫描样品，很快就得到了放大数万倍的清晰图像。
徐卫国跟眾人立刻凑上前，观看图像的情况，此刻，硅片上那些线条的宽度、边缘粗糙度和剖面形状都一览无余。
看到的第一眼，徐卫国就鬆了口气。线条边缘陡直、线宽均匀、相邻线条清晰无粘连，这证明，设备能够稳定重复的实现500纳米特徵尺寸下的加工。
章立军大声喊道：“我宣布，设备研发成功！”
话音刚落，瞬间掌声如雷。
十月中旬，天气转凉。
外面的喧囂继续，徐卫国乾脆缩小了自己的活动范围，每天就是上班下班，两点一线，反正就是什么事都不掺和。
这天上午，他来到办公室，坐下的第一件事就是看报纸，以了解各方动態。
今天头版头条的却是个好消息，两弹结合试验成功了。
所谓两弹结合，就是装载了核弹的飞弹。
对华国来说，这次试射意义重大，因为只有两弹结合后，才算是具备了真正的战略威慑力，彻底远离了战爭的阴影。
飞弹共飞行了九百公里，成功命中靶场。
不过，九百公里並不是这款飞弹的极限射程，只是为了安全考量才有意压缩了。
原歷史上，这款飞弹射程在一千三百公里左右。
不过，由於这几年材料、精密加工技术以及控制系统的大幅进步，飞弹的尺寸增加了不少，同时很多部件又大幅减重，飞弹射程自然也大幅提升。
两年前第一次试射时，对外宣称的射程就超过了两千五百公里。
而过去的两年由手资金充裕，对军工的资源投入极夫，技术进步肯定更夫，据徐卫国了解到的一点信息，最先进的型號已经达到了远程飞弹的標准，也就是四千公里。
对华国来说，飞弹领域如今基本只剩下洲际飞弹这一个硬骨头了。
看完报纸，又处理了邮件，徐卫国起身下楼。
不久，他来到了光刻机实验室。
新一代光刻机研发已经到了最后关头，徐卫国没事儿就会来转转，倒也不是要来做什么指导，纯粹是看著心情舒畅。
章立军正领著团队对机器做调试，徐卫国凑上前，拍拍他的肩膀，问道：“怎么样了？明天能完成吗？”
章立军扭头看了眼，道：“不用明天，就今天！”
徐卫国看著他已经打綹的头髮，道：“没必要这么急，慢慢来就行。————瞧你们这一个个的，跟刚逃荒回来似的。”
“嗐，这有什么，我们又不是来相亲的，那么注意形象干嘛？”
“行吧！那你给个具体时间点，我到时候也来捧场。”
“那就————下午四点吧！”
“好。”
【写到这里我希望读者记一下我们域名 101 看书网超贴心，101??????.??????等你读 】
从光刻机实验室离开，徐卫国又来到了集成电路设计实验室。
这里实际包含两个部门，一个是集成电路设计软体的开发部门，也就是后世的eda软体；一个是具体的晶片设计团队。
因为两个团队做的事紧密相关，需要经常交流沟通，所以徐卫国乾脆把他们归入了同一个实验室。
科学院那边的情况现在一团糟，已经没法指望了。幸好徐卫国早有准备，去年就从那边挖了一批骨干过来，以这些人为基础，以老带新又培养了一批人才，如今也算兵强马壮。
徐卫国走进一间屋子，就看到十几號人每人守著一台计算机，正在藉助设计软体进行集成电路的绘製。
他们的集成电路设计团队现在有四百多號人，同时在做四个项目的开发，两款微处理器，两款存储晶片。
那两款微处理器，一款是二十五万个电晶体规模的，一款只包含十万个电晶体，前者是为专业大型计算机研製，后者则为个人电脑开发。
至於存储晶片，一款是一百二十万规模的，一款只有七十万规模。
这也是他们第一次尝试设计超百万规模的集成电路，难度很大，而之所以敢这么做，是因为他们的晶片设计软体（eda软体）有了重大突破，现在已经能够对电路进行逻辑模擬、定时分析、自动布局布线，不仅彻底省去了重复劳动，还能够自动查错。
能进步这么快，主要是徐卫国给出了详细开发方案，团队成员有很清晰的方向。
设计软体开发工作原本是由计算所那边做的，等徐卫国从计算所挖来了一批软体设计人员后，就变成了两家並行。
889所这边人少，但有徐卫国参与，进展反而快的多，今年九月时就完成了开发，隨后正式投入了实际设计工作。
设计软体的进步，导致晶片设计劳动量大幅缩减，同时允许更多研发人员参与其中，集成电路的设计效率至少提高了七倍。
集成电路设计实验室的负责人叫赵勛，三十来岁，是徐卫国去年从计算所那边挖过来的。
徐卫国找到他的办公室，告知了他光刻机那边的情况。
闻言，赵勛有些无奈的道：“他们进展也太快了，我们那几款晶片，设计完成估计还得两年。看来，我们得加快进度了。”
徐卫国摆手道：“加快进度倒是不必，你们按部就班就行，毕竟欲速则不达。而且，设备做出来不代表就能立刻投入生產，真正量產估计也要等个一年半载的。”
新一代光刻机，瞄准的是500纳米特徵尺寸，完成后，將用於製造百万级规模的集成电路，就是为正在设计的那些晶片准备的。
这里的百万级，並不是说只有一百万规模，而是不確定状態。
因为其实际製造能力是受到其它各分系统制约的，比如蚀刻、薄膜沉积、离子注入等等过程，一个达不到，那整体都得受影响。而且，晶片上有的部分尺寸必须更大些，这也影响了极限规模。
说是下午四点，实际直到五点下班时间，章立军他们还没完成工作，所有人只好加班继续。
徐卫国也在这陪著。
接近六点时，各项工作终於完成，可以进行实际的加工测试了。
光刻机特徵尺寸的测试，是个相当严密的过程。
首先，要设计製造一块专用“解析度测试板”，上面有各种不同尺寸和密度的图案。
然后是进行光刻和显影。
最后是显微镜观察测量。
“解析度测试板”已经提前做好，操作员可以直接用机器进行光刻跟显影。
不久，加工完成，操作员取出硅片，接下来是实际观测。
在500纳米尺寸下，传统的光学显微镜已经不够用了，误差太大，必须使用扫描电子显微镜。
操作员把硅片拿到显微镜那，放置好后，电子显微镜发射电子束扫描样品，很快就得到了放大数万倍的清晰图像。
徐卫国跟眾人立刻凑上前，观看图像的情况，此刻，硅片上那些线条的宽度、边缘粗糙度和剖面形状都一览无余。
看到的第一眼，徐卫国就鬆了口气。线条边缘陡直、线宽均匀、相邻线条清晰无粘连，这证明，设备能够稳定重复的实现500纳米特徵尺寸下的加工。
章立军大声喊道：“我宣布，设备研发成功！”
话音刚落，瞬间掌声如雷。